非鉄金属大手のJX金属(東京)は10日、半導体材料の生産能力を強化するため、ひたちなか新工場(茨城県ひたちなか市)に約230億円の増産投資を実施すると発表した。増産するのは、半導体回路の形成に使う金属薄膜材料「スパッタリングターゲット」で、同材料の製造設備を増強する。

同日、同社が持つカセロネス銅鉱山(チリ)運営会社の株式の5%と、フロンテラ地域(チリ・アルゼンチン)での銅鉱山開発プロジェクトの権益を、カナダの銅鉱山大手企業に約340億円で譲渡することも発表した。

譲渡によって得られる資金は、ひたちなか新工場を含む半導体用スパッタリングターゲットの主要製造設備の増設や、レアメタル(希少金属)資源の獲得などに充てるとしている。

同工場は、今月末に半導体用スパッタリングターゲットの一部生産設備の試運転を開始し、開業を迎える。増強される設備は2027年度下期から順次稼働する予定で、投資による同素材の生産能力は23年度比で1.6倍を見込む。

同社は、人工知能(AI)データセンター用途の先端ロジック半導体や先端メモリ半導体の需要が拡大している中、先端半導体に必要な同素材にも急速な需要拡大を見込んでいる。